作为半导体制造的重要工序之一，光刻技术在半导体制造过程中担任着非常重要的角色。那么光刻机是什么呢？
光刻机是一种将芯片图案转移到硅片上的关键设备。在晶圆制备过程中，它的作用就像照相机一样，用光将芯片上的图形通过光刻胶层转移到硅片上，然后进行刻蚀、电镀等工艺步骤，最终制造出新的芯片。
光刻机通常是采用投影式光刻和直写式光刻两种方式。直写式光刻主要应用于样本制备和低成本结构上半微米技术，而投影式光刻则应用于生产高性能半导体芯片，由于它可以同时刻画多个设计图案，提高了生产效率。目前市场上比较主流的光刻机品牌有ASML、Nikon、Canon等。
